旋片真空泵在半导体工艺中的应用

东莞市莱诺机电科技有限公司旗下的旋片真空泵因其清洁无污染、抽速范围广、节能性好、稳定性好、易维护等优点，在半导体行业得到广泛应用。半导体技术中使用的真空主要用于蒸发、溅射、PECVD、真空干法刻蚀、真空吸附、测试设备、真空清洗等键合工艺。今天，莱诺的技术人员将在半导体技术中普及旋片真空泵应用中不可忽视的安全问题。

半导体材料可以分为两类:元素半导体和化合物半导体。元素半导体是指由硅和锗的单一元素形成的半导体，化合物是指由砷化镓和磷化铟等化合物形成的半导体。砷化镓的电子迁移率是硅的5.7倍，非常适合高频电路。

半导体制造过程中容易产生易燃、易爆、有毒物质和气体，对生产和人员安全构成威胁。因此，旋转真空泵在半导体技术应用中的几个安全注意事项主要包括以下几点:

1.定期清洗旋片真空泵等附件、过滤器和管道，避免超压；

德国旋片真空泵用于半导体时，在抽介质过程中要经过反应室和真空泵，其组成可能极其复杂。例如，SiH4和O2在泵口形成SiO2，TiCl4水解形成HCl；假设是油封机械泵，这些气体物质也可能与泵油发生反应。这些变化假设形成颗粒、可冷凝物或腐蚀性介质，它们可能会阻塞真空泵或管道系统，影响真空泵的性能，并导致压力升高或过压。第一点提到的危险更大。因此，需要及时清洗，必要时设置过滤设备。

2.有效稀释有害气体浓度；

如上所述，半导体容易产生易燃、易爆、有毒的有害气体。因此，在半导体用真空泵的应用过程中，在抽取这些介质时，需要防止真空泵或排气过程中的一些不可控反应。SiH4、PH3、AsH3、B2H6等物质。，当与空气或氧气接触时，会引起燃烧甚至爆炸；当空气中氢的混合比例达到一定程度和温度时，也会发生燃烧。这些都取决于物质的量及其与环境压力和温度的关系。因此半导体真空泵在抽取这些介质时，需要使用氮气等惰性气体，在压缩前将这些气体稀释到当前条件下的安全范围内。

3.注意氧气的浓度；

如果空气中的氧气浓度过高，也会发生燃烧和爆炸的危险。因此，在某些情况下，应注意氧气的浓度，并使用惰性气体进行稀释，以防止浓度过高。假设是油封机械泵可能还需要采用一些惰性的与氧相容的真空泵油，及时更换滤油器和油品。

4.防止温度过高；

在半导体真空泵的应用中，有害气体较多，但无论是干式真空泵还是油封机械泵，泵室内温度过高，易燃易爆气体和有毒气体在高温下容易发生危险。

以上四个方面是旋片真空泵在半导体技术应用中最重要的安全问题，不容忽视。技术人员说，小问题与运转、产量、效率和安全有关。要想工作更顺利，就要延长真空泵的使用寿命，努力协调平衡，保证效率和安全。